团簇式真空镀膜设备

设备参数、应用与方案说明

装备产品
团簇式真空镀膜设备
序号项目详细
1设备型号GY600C-P8
2设备结构八角传输腔+多个工艺腔
3传输方式真空机械手
4工艺腔配置可配置 3-8 个不同类型的蒸镀/磁控/ALD/PECVD 等工艺腔
5真空泵组采用「机械泵+分子泵」组合
6基板尺寸300mm×300mm 基板
7自动化功能一键实现全自动抽真空、充气、基片旋转、开闸板阀、真空机械手取放片、升降温、蒸镀、挡板开合
8膜厚特性不均匀性 ≤ 3%,膜厚再现性 ≤ 5%,速率稳定性 ≤ 3%
9节拍30 min/载板