专业真空镀膜装备解决方案
双腔结构、高通量节拍，4 源共蒸与全自动流程，膜厚指标可量化。
单腔结构、8 组蒸发源，膜厚监测与全自动流程，节拍与材料范围见详情规格表。
双腔+真空传输杆，6 组蒸发源与防腐蚀分子泵方案，适配叠层钙钛矿干法蒸镀工艺。
桌面型单腔、6 组蒸发源，最大 6 英寸基板，适合实验室与中试桌面部署。
八角传输腔与多工艺腔模块化组合，真空机械手传片，可集成蒸镀、磁控、ALD、PECVD 等。
Inline 多腔连线、磁力轮传输，适配大尺寸基板与高通量节拍，线源/点源可配置。
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